SENTECH 儀器有限公司、柏林工業(yè)大學、柏林亥姆霍茲材料與能源中心有限公司、德國聯(lián)邦物理技術研究院（PTB）共同攜手合作的聯(lián)合研究提案已被批準用于柏林 IBB 投資銀行的 ProFIT 計劃（促進研究、創(chuàng)新、技術的計劃）。
在開展OptiRefS 項目（技術層系統(tǒng)的光學參考數(shù)據(jù)）的三年期間，他們將開發(fā)用于在 200納米以下波長范圍內(nèi)對薄膜層進行橢圓測量的新型參考物質(zhì)，例如紋理硅表面和超薄二維石墨層。
通過使用 PTB 計量光源 MLS的真空紫外 (VUV-) 橢偏儀，可以確定具有可靠不確定度的相應光學常數(shù)。由于 VUV 光譜范圍內(nèi)的測量具有極高的表面敏感性，因此測量質(zhì)量會受到分子污染等表面效應的限制，導致這些范圍缺乏有效數(shù)據(jù)。
在混合計量方法中使用互補測量技術和數(shù)值建模，就可通過定量識別、校正干擾效應來解決這些缺點，從而能夠可靠地提供光學材料參數(shù)。
